隨著社會的不斷進步，人工智能、大數據與工業的全方位系統集成，根據公司發展需要，
應對未來市場，產品不斷升級，10月份新研發產品氧化鋁靶材成功突破，
本研發項目有過硬的技術團隊把控每道質量工序，該產品投放市場后，通過客戶試用，每項指標均已達到使用標準。

氧化鋁靶材具有以下特點：

1、高化學純度，能夠更好地滿足電子工業的要求；

 2、低雜質含量，保證了膜層的純度和穩定性；

      3、良好的膜形成能力和穩定性，有利于薄膜和涂層的均勻性和穩定性；

      4、優異的化學性質和熱穩定性，能夠在高溫和惡劣的環境下穩定工作。

氧化鋁靶材主要應用于以下領域：

      1、光學薄膜：用于制備高折射率的光學薄膜；

      2、電子薄膜：用于制備金屬鋁、鎢、鉬等金屬材料的電子薄膜；

      3、陶瓷工業：用于制備高溫陶瓷材料和瓷磚；

      4、化學儀器：用于制造高溫化學反應器和高溫儲罐等化學儀器。

技術參數





 

*注：以上參數僅供參考，可根據客戶實際需求，適當調整。